最近一段时间芯片问题成了国内许多科技企业难以逾越的一个障碍，尤其是华为要遵守一些规则这件事，让很多人对芯片有了或多或少的了解。而荣耀打包出售的事件，更是让大家清晰地意识到芯片困境已到了接近“山穷水尽”的地步。
从目前的态势来看，要想纯依靠外力解决芯片问题是不现实的，唯有突破技术瓶颈实现自主化才能摆脱困境。近日，南大光电正式官宣，在芯片领域的光刻胶技术上实现了突破，国内首条ARF光刻胶生产线正式建成。
ARF光刻胶可用于7nm及以上芯片的制造，是芯片制造的必要产品，一直以来国内光刻胶都是进口的，大部分来源于日本，而这里就有一个比较尴尬的问题，那就是日本高端光刻胶产业基本都是由美国对冲资金控制，也就是说美国相当于在背后垄断了这个行业。
而美国对于华为的做法让很多人提心吊胆，殊不知哪天突然又来一些规定，把光刻胶的来源又给限制了。在笔者看来，南大光电的ARF光刻胶技术让中芯国际看到了希望，因为又有一项核心技术实在了国产化，不用看美国的脸色了。
大家都知道，芯片的制造难度非常大，制程越小的芯片集成线路越多，要想让线路实现有规则的布局，那么光刻技术和刻蚀技术工艺就是必须要应用的，而这种工艺实现的前提就是需要高端的光刻胶。
今年手机芯片已经入了5nm时代，光刻和蚀刻工序就占到芯片整体生产周期的一半以上，所以对光刻胶的要求就越来越高，当下主流的光刻胶就是ARF光刻胶，占据了接近光刻胶整体市场的一半份额。
上面说到了国内光刻胶大部分进口于日本，并且这些产业基本都由美国控制，最主要的是因为光刻胶技术壁垒高，尤其是在光阻材料方面，而这项技术还是由美国把持的。所以说，南大光电的ARF光刻胶技术的突破是极具意义的。
当然了，光刻胶仅是芯片制造的一个环节，要想把光刻胶用好，那么还需要有好的光刻机。前几个月，ASML已经官宣向我国出售一些光刻机了，但什么时间能到货目前还没有准确的消息。
笔者认为，芯片道路不可能一蹴而就，国产科技企业每实现一次技术突破都是值得鼓励的，毕竟从当下国产芯片的发展速度来看，要远远超过很多人的预期。
诸多科技企业都在加快技术研制的步伐，消息称华为初期也将投资100亿在上海建芯片工厂。国家也在宏观上对芯片产业给予支持，希望国内科技企业能够频传好消息，在光刻胶技术突破瓶颈之后，再为国产芯片注入新的活力。
最近高通、三星等也都获得了供货许可，虽然制程有限，但一切都在向好发展，三星与vivo合作首发5nm芯片、小米占股高通等消息都预示着国产芯片可能快要见到曙光了。但我们也要清楚意识到自己的差距，不能刚取得一点成绩就沾沾自喜，毕竟国产芯片与世界的差距太大了。
大家对此有何看法呢?
